「平成30年度招へい研究者 研究成果報告会」に参加しました

更新日 ： 2018.07.04

今日の午前は、知的財産研究所が主催する「平成30年度招へい研究者 研究成果報告会」に参加しました。「知的財産研究所」は、知的財産アナリストを認定する「知的財産教育協会」と同様に、一般財団法人知的財産研究教育財団の下部組織です。知的財産研究所では、特許庁から委託を受け、外国から研究者を招へいし、産業財産権に関する制度調和が必要となる課題について研究する機会を提供しており、今回のように招へい研究者 研究成果報告会を開催しています。

今日の報告者と研究テーマは、

・ Wang, Runhua（ワン・ルンファ）氏（イリノイ大学ポスドク研究員）

・ “The Distribution of the Value of Japanese Patents in the World”（世界における日本特許の価値の分布（仮訳））

です。6月上旬から7月上旬までの約1か月の招へい期間中の研究成果の発表です。

特許価値を評価するため、中国・米国・韓国・カナダ・ドイツ・日本の特許の統計を駆使して、後方引用（backward citations）の数、つまり、その出願の審査で参照された引用文献の数、前方引用（foward citations）の数、つまり、その出願を他の出願の審査で参照した被引用の数、クレームの数の増減等から特許価値との相関性を見ていこうとする研究でした。特許のビッグデータのパラメータを用いて特許の価値評価の判断基準を考える研究を外国の若い研究者が行っていること自体、興味深く、示唆の多い報告会でした。